Silici

iso	AN	Període de semidesintegració	CD	ED M eV	PD
²⁸Si	92.23%	El silici és estable amb 14 neutrons
²⁹Si	4.67%	El silici és estable amb 15 neutrons
³⁰Si	3.1%	El silici és estable amb 16 neutrons
³²Si	{sin}	276 a	β^-	0.224	³²P

Valors en el SI de unitats i en CNPT (0º C i 1 atm),
excepte quan s’indique el contrari.

El silici és un element químic no metàl·lic de la taula periòdica que té el símbol Si i un nombre atòmic de 14. Un metal·loide tetravalent de silici és menys reactiu que el seu equivalent químic, el carboni. És el segon element més abundant de la escorça terrestre (suposa el 25.7% del seu pes) després de l'oxigen. Es presenta en dues formes, amorfa i cristal·lina; la primera és una pols terrósa, més activa que la variant cristal·lina, que es presenta en octaedres de color blau grisenc i brillantor metàl·lica. Apareix en l'argila, el feldspat, granit, quars i sorra, principalment en forma de biòxid de silici (també conegut com sílice) i silicats (components que contenen silici, oxigen i metalls). El silici és el component principal del vidre, ciment, ceràmica, la majoria de silicones (substància plàstica).

[edita] Característiques principals

Les seves propietats són intermèdies entre les del carboni i el germani. En forma cristal·lina és un molt dur i poc soluble i presenta una brillantor metàl·lica i color grisenc. Encara que és un element relativament inert i resisteix l'acció de la majoria dels àcids, reacciona amb els halogens i àlcalis diluïts. El silici transmet més del 95% de les longituds d'ona de la radiació infraroja.

[edita] Aplicacions

S'utilitza en aliatges, en la preparació de les silicones, en la indústria ceràmica i pel fet que és un material semiconductor molt abundant, té un interés especial en la indústria electrònica i microelectrònica com a material bàsic per a la creació d'oblees o xips en els que es poden implementar transistors, cèl·lules solars, i una gran varietat de circuits electrònics.

El silici és un element vital en nombroses indústries. El diòxid de silici (arena i argila) és un important constituent del formigó i les rajoles, i s'empra a més en la producció de ciment pòrtland. Per les seves propietats semiconductores s'usa en la fabricació de transistors, cèl·lules solars i tot tipus de dispositius semicondutors; per aquesta raó es coneix com a Silicon Valley (Vall del Silici) a la regió de Califòrnia en la que concentren nombroses empreses del sector de l'electrònica i la informàtica.

Altres importants usos del silici són:

Com a material refractari, s'usa en ceràmiques i esmaltats.
Com a element d'aliatge en foneries.
En la fabricació de vidre i aïllants entre altres usos.
El carbur de silici és un dels abrasius més importants.
S'usa en làsers per a obtenir una llum amb una longitud d'ona de 456 nm.
La silicona s'usa en medicina en implants de pit i lents de contacte.

[edita] Història

El silici (del llatí sílex, sílice) va ser identificat per primera vegada per Antoine Lavoisier al 1787, i posteriorment identificat com a element per Humphry Davy al 1800. Al 1811 Gay-Lussac, i Louis J. Thénard probablement, van preparar silici amorf impur escalfant potassi amb tetrafluorur de silici(SiF₄). Al 1824 Berzelius va preparar silici amorf emprant un mètode semblant al de Gay-Lussac, purificant després el producte mitjançant rentats successius fins a aïllar l'element.

[edita] Abundància i obtenció

Làmina de silici polida

El silici és un dels components principals dels aeròlits, una classe de meteoroides.

Mesurat en pes, el silici representa més de la quarta part de l'escorça terrestre i és el segon element més abundant per darrere de l'oxigen. El silici no es troba en estat natiu, però apareix a la natura en forma d'òxid en diversos minerals, entre ells l'arena, quars, ametista, àgata, pedrenyal, òpal i jaspi, mentre que formant silicats es troba, entre altres, en el granit, feldespat, argila, hornblenda i mica. El silici comercial s'obté a partir de sílice d'alta puresa en forn d'arc elèctric reduint l'òxid amb elèctrodes de carboni a temperatura superior als 1900 ºC:

SiO₂ + C → Si + CO₂

El silici líquid s'acumula en el fons del forn d'on s'extreu i es refreda. El silici produït amb aquest procés es denomina metal·lúrgic i té una puresa superior al 99%. Per a la construcció de dispositius semiconductors és necessari un silici de major puresa, silici ultrapur, que pot obtenir-se per mètodes físics o químics.

Els mètodes físics de purificació del silici metal·lúrgic es basen en la major solubilitat de les impureses en el silici líquid, de forma que aquest es concentra en les últimes zones solidificades. El primer mètode que es va idear, usat de forma limitada per a construir components de radars durant la segona guerra mundial, consisteix a moldre el silici de forma que les impureses s'acumulen en les superfícies dels grans; dissolent aquests parcialment amb àcid s'obtenia una pols més pura. El primer mètode usat a escala industrial, la fusió per zones, consisteix a fondre un extrem de la barra de silici i traslladar lentament el focus de calor al llarg de la barra de mode que el silici va solidificant amb una puresa major, en arrossegar la zona fosa, gran part de les impureses. El procés pot repetir-se les vegades que sigui necessari fins a aconseguir la puresa desitjada, descartant-se llavors l'extrem final en què s'han acumulat les impureses.

Els mètodes químics, usats actualment, actuen sobre un compost de silici que sigui més fàcil de purificar descomponent-lo després de la purificació per a obtenir el silici. Els compostos freqüenment usats són el triclorosilà (HSiCl₃), el tetraclorur de silici (SiCl₄) i el silà (SiH₄).

En el procés Siemens, les barres de silici d'alta puresa s'exposen a 1150ºC al triclorosilà, gas que es descompon dipositant silici addicional a la barra segons la reacció següent:

2 HSiCl₃ → Si + 2 HCl + SiCl₄

El silici produït per aquest i altres mètodes semblants es denomina silici policristallí i típicament té una fracció d'impureses d'unes 0,001 ppm o menor.

El mètode Dupont consisteix a fer reaccionar tetraclorur de silici a 950ºC amb vapors de zinc molt purs:

SiCl₄ + 2 Zn → Si + 2 ZnCl₂

Aquest mètode, no obstant, és més delicat (el clorur de zinc, subproducte de la reacció, solidifica i obstrueix les línies) pel qual actualment s'ha abandonat en favor del procés Siemens.

Una vegada obtingut el silici ultraultrapur és necessari obtenir un monocristall, per a aconseguir-ho s'utilitza el procés Czochralski.

[edita] Isòtops

El silici té nou isòtops amb masses atòmiques entre 25 i 33 uma, del quals el Si-28 (el més abundant, 92,23%), Si-29 (4,67%) i Si-30 (3,1%) són estables.