Diòxid de silici
De Viquipèdia
Diòxid de silici | |
---|---|
General | |
Altres noms | Sílice |
Fórmula molecular | SiO2 |
Massa molar | 60.1 g/mol |
Aspecte | blanc o incolor sòlid (en estat pur) |
Número CAS | [14808-60-7] |
Propietats | |
Densitat i fase | 2.6, g/cm3 sòlid |
Solubilitat en aigua | insoluble |
Punt de fusió | 1610 °C |
Punt d'ebullició | 2230 °C |
Estructura | |
Geometria de coordinació |
tetraèdric |
Estructura cristal·lina | variat |
Perills | |
MSDS | MSDS externa |
Classificació UE | |
NFPA 704 |
|
Frases R | R42 R43 R49 |
Frases S | S22 S36 S37 S45 S53 |
Punt d'inflamabilitat | no inflamable |
Compostos relacionats | |
Altres anions | Disulfur de silici |
Altres cations | Diòxid de carboni Diòxid de germani Òxid d'estany(IV) Òxid de plom(IV) |
Compostos relacionats | Àcid silícic |
Si no s'indica el contrari, les dades són pels materials en condicions estàndard (25 °C, 100 kPa) Avís d'exempció de responsabilitat |
El compost químic conegut com a diòxid de silici o sílice és l'òxid de silici, amb fórmula química SiO2.
Es pot trobar a la natura en múltiples formes: quars, arena, cristobalita, òpal, sílex...
És el principal constituent de la sorra, principalment en forma de quars, ja que la gran duresa d'aquest el protegeix de l'erosió. Tot i això la composició de la sorra, varia en funció de la geologia i les condicions locals.
La inhalació de diòxid de silici cristal·li en la pols, pot provocar la silicosis, malaltia que afecta especialment als miners.
El diòxid de silici cristal·litzat és un material molt dur. S'empra per produir ones radioelèctriques d'una freqüència molt precisa, la qual cosa es molt útil per fabricar rellotges, aparells de ràdio, ordinadors, i qualsevol equip electrònic on cal una freqüència radioelèctrica molt precisa.
[edita] Química
El diòxid de silici es pot formar al escalfar silici a temperatures extremadament altes en presència d'oxigen (o aire). Ocasionalment, pot ocorrer de forma natural en incendis, o al caure un llamp sobre sorra.
El diòxid de silici es pot atacar amb àcids forts, particularment el fluorur d'hidrogen (HF). Precisament s'utilitza aquest àcid per eliminar o marcar el diòxid de silici en la indústria dels semiconductors.